重要研究設備

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微影製程實驗室

利用本實驗室來達到微機電製程中最為普遍使用到的微影製程技術。實驗機台有曝光機、光阻旋佈機、操作台、晶片接合機、熱板、光學顯微鏡、超音波震盪機。

濺鍍製程實驗室

利用該電漿中的離子或離子團轟擊靶材使靶材表面的原子獲得能量脫離靶材並透過擴散順利濺鍍於基材表面 目前本實驗室可用的金屬有AuAgAlFeCuNiTaTi等。

反應式離子蝕刻機(Reactive Ion Etcher, RIE)

反應離子蝕刻機,將基材暴露於具有反應氣體以及電漿的環境下,對基材施與偏壓,讓基材在偏壓下同時受到離子的物理性轟擊和反應氣體的化學性蝕刻達到快速且非等向蝕刻之目的。

薄膜製程實驗室

電子槍蒸鍍機利用能量集中的電子束對靶材進行局部加熱,利用受熱後蒸發或昇華的靶材蒸氣在高真空環境中順利蒸鍍於基材表面。目前本實驗室可用的金屬有AuAgAlCrCuNiPtTiSiO2

JEOL-原理係利用以產生電子來源的電子槍,改變電子行進方向的電磁透鏡,與光學聚焦系統為主。電子束行進的電子路徑,和電子與物質之交互作用並於真空環境下操作顯示部分樣品奈微米構造。

奈微米流體系統實驗室(微流體量測實驗室)

在微小的世界裡有許多現象有許多都與我們習慣的尺度下不相同,本實驗室之功用在於觀察實際上微小流體的現象。

無油隔膜式真空幫浦

製造低壓之實驗環路系統。

數據擷取系統

擷取實驗中量測儀器之數據結果。

高速攝影機系統(內含可變焦顯微放大系統)

觀察微流道內流場變化,雙相流譜之影像紀錄及擷取。

微量注射式幫浦

定量輸送流體至實驗測試段內(微流道)。